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利潔凈低硫低氯丁腈手套在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的應(yīng)用

發(fā)布日期:2025-03-30 13:50瀏覽次數(shù):

利潔凈低硫低氯丁腈手套在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的應(yīng)用主要基于其

超低硫氯含量、高潔凈度、防靜電及化學(xué)兼容性,能夠滿足半導(dǎo)體制造對(duì)金屬污染、微??刂萍肮に嚟h(huán)境的嚴(yán)苛要求。以下是具體應(yīng)用場景和優(yōu)勢:

1. 核心優(yōu)勢:低硫低氯的雙重潔凈保障

硫污染控制:硫元素可能與半導(dǎo)體中的金屬層(如鋁、銅互連)反應(yīng)生成硫化物,導(dǎo)致電路短路或腐蝕。低硫設(shè)計(jì)可避免硫擴(kuò)散污染。

 氯污染控制:氯元素在高溫或潮濕環(huán)境下可能引發(fā)電化學(xué)腐蝕,尤其對(duì)氧化層(如SiO?)或敏感元件(如MOSFET)造成損害。低氯配方減少此類風(fēng)險(xiǎn)。

 無鹵素殘留:符合半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)鹵素(Cl、Br等)的限制要求(如IEC 61249-2-21),避免對(duì)精密器件的化學(xué)侵蝕。

2. 高潔凈度適配超凈環(huán)境

微粒與離子控制:通過無硅油、無脫模劑工藝,手套表面微粒(≥0.5μm)≤1000個(gè)/副,離子殘留(Na?、K?、Cl?等)≤100ppb,滿足ISO Class 1~3(百級(jí)至十級(jí))無塵室標(biāo)準(zhǔn)。

 低析出物:高溫制程(如擴(kuò)散、氧化)中不釋放硫/氯化合物,防止晶圓表面污染或器件性能退化。


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